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先進製程慢熱 台積電轉攻3D IC - 追新聞 - 新電子科技雜誌

先進製程慢熱 台積電轉攻3D IC - 追新聞 - 新電子科技雜誌

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日期：2024-10-15
20和14奈米先進製程的極紫外光微影(EUV)製程與多重電子束(MEB)無光罩微影技術尚未完備，且生產成本仍大幅超出市場預期，量產時程延緩將在所難免。因此，在先進製程技術面臨關卡之際， ......看更多

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