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蒸鍍
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日期:2024-09-13
CVD法形成膜的原理簡單示於下圖。 ... 現在的半導體製程中,幾乎都不用蒸鍍法,
因此PVD法在元件製造上,只使用濺鍍法而已。 ◇ 濺鍍法是在高真空狀態下,利用氬
離子撞擊靶產生的濺鍍現象,將靶材的原子 ......看更多