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奈米通訊。第五卷第三期 42.光學微影術中光阻的發展趨勢
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日期：2024-07-19
第五卷第三期 光學微影術中光阻的發展趨勢 柯富祥 1，蔡輝嘉 2 1 國科會國家奈米元件實驗室 副研究員 2 力晶半導體股份有限公司 微影經理 1.介紹 由於積體電路設備的改進及製程材料的發展，使得製程技術不斷的被更新。...看更多
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