rca clean原理的相關文章
rca clean原理的相關公司資訊
rca clean原理的相關商品
![半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 濕式清洗檯操作危害及安全防範 - Semicondutor Magazine](https://www.iarticlesnet.com/pub/img/site/s_13.jpeg)
半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 濕式清洗檯操作危害及安全防範 - Semicondutor Magazine
瀏覽:820
日期:2024-08-31
林義凱b> / 台灣積體電路製造股份有限公司三廠工安環保部 劉美娟b> / 工研院材料研究所副工程師 濕式蝕刻是最早被使用的蝕刻技術,它是利用薄膜與特定溶液間所進行的化學反應,來去除未被光阻覆蓋之薄膜。而其濕式清洗檯(Wet bench)機台使用之高溫 ......看更多