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Plasma Etch[等離子刻蝕] - Etching&Clean - 半導體技術天地 晶片,集成電路,設計,版圖,製造,工藝,製程,封裝,測試,wafer ...
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日期：2024-09-04
Plasma Etch[等離子刻蝕]作者:蔣維楠 Lam Research China技術總監 等離子體刻蝕（也稱Dry Etch[幹法刻蝕]）是集成電路製造中的關鍵工藝之一，其目的是完整地將掩膜圖形 ......看更多
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